PROCAMTM
表面涂层解决方案 Evergreen C&T生产多种采用纳米颗粒解决方案技术制成的涂层产品。-
高性能镀膜溶液
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高功能单体
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超疏水材料
真空蒸发涂层材料
真空蒸发镀膜系统
高纯度膜可从高纯度来源材料中沉积得来，待蒸发的源材料可以是任何形式、任何纯度的固体。沉积率监测和控制相也相对简单。
真空涂层材料
Al2O3 (氧化铝)
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通量范围
200~5,000nm
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熔点
2,040℃
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蒸发温度
2,000 ~ 2,200℃
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密度
3.9g/cm2
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应用
多层保护膜
SiO (一氧化硅)
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通量范围
800~8,000nm
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熔点
1,705℃
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蒸发温度
1,100 ~ 1,800℃
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密度
>2.5g/cm2
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应用
多层保护膜
SiO2 (二氧化硅)
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通量范围
200~2,500nm
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熔点
1,700 ~ 1,800℃
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蒸发温度
1,800 ~ 2,200℃
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密度
>2.2g/cm2
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应用
多层保护膜
MgF2 (氟化镁)
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通量范围
200~7,000nm
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熔点
1,261℃
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蒸发温度
1,300 ~ 1,600℃
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密度
>2.8g/cm2
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应用
抗反射镀膜、保护膜、玻璃塑料和珠宝上的多层
ZrO2 (二氧化锆)
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通量范围
350~7,000nm
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熔点
2,700℃
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蒸发温度
2,500℃
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密度
>4.7g/cm2
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应用
抗反射镀膜、多层膜
TiO2 (二氧化钛)
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通量范围
350~14,000nm
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熔点
1,650℃
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蒸发温度
1,800 ~ 2,000℃
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密度
4.2g/cm2(金红石), 3.8g/cm2(锐钛矿)
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应用
多层膜的高折射率层
ITO (铟锡氧化物)
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通量范围
400~1,000nm
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熔点
1,800℃
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蒸发温度
1,800 ~ 2,000℃
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密度
>4.7g/cm2
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应用
导电透明层
Ti3O5 (五氧化三钛)
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通量范围
400~12,000nm
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熔点
1,750℃
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蒸发温度
1,800 ~ 2,000℃
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密度
>4.57g/cm2
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应用
抗反射涂层，干涉滤光片、保护膜、分束片 、珠宝
CrSiO (Chromium Silicon Monoxide, MX-Series)
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通量范围
360~10,000nm
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熔点
1,350℃
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蒸发温度
1,800 ~ 2,000℃
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密度
>5.3g/cm2
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应⽤
多层胶粘剂促进剂
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